Наименование типа деталей | Теоретические схемы базирования и их характеристика Характеристика базирования | |
1. Корпусные | 1.1 Неполная схема базирования. 1,2,3 – установочная технологическая база. Применяется при получении в процессе обработки размеров в направлении, перпендикулярном установочной базе. | |
1.2 Полная схема базирования 1,2,3 – установочная технологическая база; 4,5 – направляющая технологическая база; 6 – опорная технологическая база. Применяется при получении в процессе обработки размеров в направлении трех координатных осей. | ||
1.3 применяется на операциях чистовой обработки поверхностей после создания баз (плоскости и двух отверстий) | Схема базирования - установочная технологическая база; 4 – опорная технологическая база; 5,6 - двойная опорная технологическая база | |
2. Рычаги | 2.1 Применяется на черновых операциях при обработке базовых для последующих операций поверхностей | Полная схема базирования 1,2,3 – установочная технологическая база; 4,5 – скрытая направляющая технологическая база; 6 – скрытая опорная технологическая база |
2.2 Применяется при обработке вспомогательных поверхностей при базировании по плоскости и двум отверстиям | Полная схема базирования 1,2,3 – установочная технологическая база; 4,5 – направляющая технологическая база; 6 – опорная технологическая база. | |
2.3 Применяется на операции предварительной обработки, а также при создании постоянных технологических баз. | Полная схема базирования 1,2,3 – технологическая база; 4,5 – двойная опорная технологическая база; 6 – опорная технологическая база. | |
3. Валы, втулки при L>2D | 3.1 Применяется при обработке торцевых поверхностей и центровых отверстий, а также при обработке основных и вспомогательных поверхностей. | Полная схема базирования 1,2,3,4 – скрытая двойная направляющая база; 5 – опорная технологическая база |
3.2 Применяется при обработке вспомогательных поверхностей. | Полная схема базирования 1,2,3,4 - скрытая двойная направляющая база; 5 – опорная технологическая база. | |
4. Диски, втулки и т. п. детали при L>D | 4.1 Применяется при обработке базовых, основных и вспомогательных поверхностей. | Полная схема базирования 1,2,3 – установочная технологичес-кая база; 4,5 – скрытая двойная опорная технологическая база; 6 – скрытая опорная технологическая база. |
4.2 Применяется при обработке вспомогательных поверхностей, если погрешность расположения поверхностей относительно баз не задана. | Полная схема базирования 1,2,3 – установочная технологичес-кая база; 4,5,6 – опорная технологичес-кая база. | |
4.3 Применяется при обработке вспомогательных поверхностей. | См. сх. 4.2 | |
4.4 Применяется при обработке базовых поверхностей, например – протягиванием. | Неполная схема базирования 1,2,3 – установочная технологичес-кая база. | |
4. Диски, втулки и т. п. детали при D<L<=2D | 4.5 Применяется при обработке базовых, основных и вспомогательных поверхностей | Полная схема базирования 1,2,3,4 – скрытая двойная направляющая технологичес- кая база; 5,6 – опорная технологичес- кая база. |
4.6 Применяется при обработке гладких наружных поверхностей. Примечание: возможно использование схемы без 5-й опорной точки. | Неполная схема базирования 1,2,3,4 – скрытая двойная направляющая технологичес- кая база; 5 – опорная технологичес- кая база. | |
4.7 Применяется при обработке вспомогательных поверхностей. | Полная схема базирования 1,2,3,4 –направляющая технологичес- кая база; 5,6 – опорная технологичес- кая база. |
Обозначения:
Условное обозначение опорной точки