Электрические свойства тонких металлических пленок
Металлические пленки, получаемые вакуумными методами (например, термическим испарением, ионно-плазменным распылением), используются в микроэлектронике в качестве межэлементных соединений, контактных площадок, резистивных и магнитных элементов, обкладок конденсаторов.
Электрические свойства тонких пленок существенно отличаются от свойств исходных материалов в массивном (компактном) состоянии. Это обусловлено:
• структурой пленок. При конденсации распыляемого металла на поверхности структура пленок может изменяться от аморфной до кристаллической (например, при образовании монокристаллических эпитаксиальных пленок); размерными эффектами. В пленках поверхностные процессы преобладают над объемными, особенно если толщи на пленки (h) соизмерима с длиной свободного пробега (l) основных носителей заряда, что сказывается на свойствах, в том числе и электрических.
При рассмотрении зависимости удельного электросопротивления ρ и температурного коэффициента удельного электросопротивления aρ, тонких пленок от толщины различают три области (рис. 4.4).
Рис. 4,4. Зависимость ρ и aρ пленок от толщины h
Область I соответствует толщине пленки А~10-3 мкм. Видно, что ρ значительно превышает ρм (здесь ρм — удельное электросопротивление исходного металла или сплава в массивном состоянии); aρ < 0. На ранних стадиях конденсации металла образующиеся пленки имеют островковую структуру: частицы металла располагаются на диэлектрической подложке не сплошным слоем, а в виде зерен (островков). При приложении поля электроны проходят через диэлектрические зазоры между островками, поэтому ρ пленки определяется удельным электросопротивлением не только металла, но и диэлектрика, которое на несколько порядков выше, чем ρ металла. Поскольку с увеличением температуры ρ диэлектрика уменьшается, температурный коэффициент удельного электросопротивления пленки меньше нуля, а его значение велико по модулю.
При увеличении толщины пленки до 10-2 < h < 10-1 мкм (область II) ρ > ρм и aρ меняет знак. Увеличение толщины пленки обусловлено увеличением количества осажденного металла, благодаря чему диэлектрические зазоры между островками уменьшаются, поэтому уменьшается также и ρ пленки, а aρ становится меньше по модулю, а затем меняет знак.
При дальнейшем увеличении толщины пленки (в области III соответствующей толщине пленки h > 10-1 мкм) происходят слияние островков и образование сплошного металлического слоя, значение ρ стремится к значению ρM, а aρ — к aρм. Тем не менее ρ пленок всегда оказывается выше ρм вследствие высокой концентрации дефектов (вакансий, дислокаций, границ зерен, образующихся при слиянии островков, примесных атомов, поглощенных из остаточной атмосферы, и т. д.).
Увеличению ρ способствует также и размерный эффект, т.е. уменьшение длины свободного пробега электронов вследствие их рассеяния поверхностями пленки.
Контактная разность потенциалов и термоЭДС
При контакте двух различных металлов между ними происходит обмен электронами и возникает контактная разность потенциалов (КРП). Она обусловлена различием в значениях работы выхода электронов и концентрации электронов проводимости у этих металлов.
КРП между металлами А и В выражается формулой
UAB=UB – UA + (кТ/е) ln (nА/пB),
где UA, UB, nА и nB — соответственно электрические потенциалы и концентрации электронов проводимости соприкасающихся металлов.
Если провода из А и В образуют замкнутую цепь и температура обоих контактов одинакова, то сумма разностей потенциалов в этой цепи равна нулю.
Рис. 4.5. Контактная разность потенциалов
Если же один контакт имеет температуру Т1, а другой Т2 (рис. 4.5), то возникает термоэлектродвижущая сила (термоЭДС):
U= UAB + UBA = UB - UA + (кТ1/е) ln (nА/пB) + UA – UB +(кТ2/е) ln (nB/пA),
Откуда
U= (к/е) (Т1 - Т2) ln (nА/пB) = a (Т1 - Т2),
где а - коэффициент ТЭДС, являющийся функцией разности температур горячего и холодного контактов.
Подобрав два материала, имеющих большую термоЭДС, и изготовив из них термопару, можно пользоваться ею для измерения температуры. При изготовлении термопар используют следующие сплавы:
• копель (56 % Сu, остальное Ni);
• алюмель (95 % Ni, остальное Аl, Si, Mg);
• хромель (90 % Ni, остальное Cr);
• платинародий (90 % Pt, остальное Rh).