КРАТКИЕ ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ СВЕДЕНИЯ И ОСНОВНЫЕ
РАСЧЕТНЫЕ ФОРМУЛЫ
Проводниковые материалы
Плотность тока в проводнике с одним типом носителей заряда
где γ - удельная электрическая проводимость, См*м-1; E = U/l - напряженность электрического поля в проводнике длиной l, м, при разности потенциалов между его концами U, В.
Удельная электрическая проводимость металла
где n - концентрация свободных электронов, м-3; е = 1,6*10-19 Кл – заряд электрона; μ = v/Е - подвижность электронов, м2 /(В*с); v - скорость, приобретаемая электронами в электрическом поле, м/с.
Удельное электрическое сопротивление - это величина, обратная удельной электрической проводимости
В соответствии с классической электронной теорией металлов выражение для удельного электрического сопротивления имеет вид
где m0 = 0,91*10-30 кг - масса электрона; 1ср - средняя длина свободного пробега электронов, м; vT - средняя скорость теплового движения электронов, м/с, которая определяется из соотношения
где k = 1,38*10-23 Дж/К - постоянная Больцмана, Т - температура, К.
Если атомы в металле ионизированы однократно, то концентрация свободных электронов n будет равна концентрации атомов N и может быть рассчитана по формуле
где d - плотность вещества, кг/м3; М - молярная масса, кг/моль; NA = 6,02*1023 1/моль - постоянная Авогадро.
В соответствии с квантовой теорией удельное электрическое сопротивление металлов
где h = 6,63*10-34 Дж*с - постоянная Планка.
Средняя скорость дрейфа за время свободного пробега
где τ0 – время свободного пробега.
Среднюю скорость можно также найти по формулам
В промежутках между столкновениями с узлами кристаллической решетки электрон при воздействии электрического поля движется с ускорением
а = e*E/m0.
Удельная проводимость проводника может быть определена как
g = (e2 * n * l)/(m0 * u),
где u – средняя скорость теплового движения (температуре 300 К соответствует средняя скорость порядка 105 м/с).
Время дрейфа электрона по проводнику t = l/v.
Время пролета при движении электрона без соударений tпр = .
Влияние примесей и структурных дефектов на удельное сопротивление. Примеси и структурные дефекты увеличивают удельное сопротивление металлов. В соответствии с правилом Маттиссена
ρ = ρт + ρост, Ом*м,
где ρт - удельное электрическое сопротивление, обусловленное рассеянием электронов на тепловых колебаниях узлов кристаллической решетки;
ρост = ρпр + ρдеф - остаточное удельное сопротивление, обусловленное рассеянием электронов на статических дефектах структуры: примесных атомах (ρпр) и собственных дефектах структуры (ρдеф).
Наиболее существенный вклад в остаточное сопротивление вносит рассеяние на примесях. При малом содержании примесей удельное сопротивление возрастает пропорционально концентрации примесных атомов. Кроме примесей, некоторый вклад в остаточное сопротивление вносят собственные дефекты структуры - вакансии, атомы внедрения, дислокации, границы зерен. Остаточное сопротивление представляет собой характеристику химической чистоты и структурного совершенства металла. Для оценки содержания примесей измеряют отношение удельного сопротивления металла при комнатной температуре и температуре жидкого гелия: β = ρ300/ρ4,2.
Удельное сопротивление металлических сплавов, имеющих структуру неупорядоченного твердого раствора, ρост может существенно превышать ρт. Для многих двухкомпонентных сплавов металлов, не принадлежащих к числу переходных или редкоземельных элементов, зависимость ρост от состава описывается законом Нордгейма
ρост = CXAXB = CXА(1 - XB), Ом*м,
где C - константа, зависящая от природы сплава; XA, XB - атомные доли компонентов в сплаве.
Влияние температуры на сопротивление и длину проводника. В диапазоне температур, где зависимость ρ от Т близка к линейной, справедливо выражение
ρ = ρ0[1 + αρ(T – T0)], Ом*м,
где ρ0 - удельное сопротивление в начале температурного диапазона;
- средний температурный коэффициент удельного сопротивления в данном диапазоне температур, К-1;
ρ - удельное сопротивление при температуре Т.
Температурные коэффициенты удельного сопротивления ar, сопротивления aR и удлинения al связаны соотношением
ar = aR + al.
Температурный коэффициент сопротивления
aR = (R2 – R1)/[R1 * (T2 – T1)].
Зависимость длины проводника от температуры
l = l0 * [1 + al * (T – T0)],
где l0 – начальная длина проводника при температуре Т0;
l – длина при температуре Т;
αl – температурный коэффициент линейного удлинения.
Теплопроводность металлов. В металлах благодаря высокой концентрации свободных электронов преобладает электронная теплопроводность. Экспериментальный закон Видемана – Франца - Лоренца устанавливает связь между удельной теплопроводностью λ, Вт*м/К, и удельной электрической проводимостью γ, См/м:
l/g = L0T,
где L0 – число Лоренца.
Количество теплоты Q, выделяющееся в единицу времени в единице объема проводника, по которому протекает ток плотностью J, при напряженности электрического поля E, выражается формулой
Q = J*E = γ*E2, Вт/м-3.
Внутренняя контактная разность потенциалов при соприкосновении металлов А и В
eUk = WFB - WFA,
причем уровни Ферми отсчитываются от дна зоны проводимости.
Связь между концентрацией электронов и энергией Ферми
n = (8p/3) * (2m0/h2)3/2 * (WF)3/2
Разность потенциалов на концах последовательной разнородной цепи
E = (Ан – Ак)/(e*l),
где Ан, Ак – работа выхода электронов из начального и конечного проводников; l – расстояние между ними.
Примечание: если работа выхода выражена в эВ, величина е в знаменателе отсутствует.
Термоэлектродвижущая сила (термоЭДС). В однородном проводнике при наличии градиента температуры на его концах возникает разность потенциалов. Ее значение, отнесенное к единичной разности температур на концах проводника, называют абсолютной удельной термоЭДС. В термоэлектрической цепи, составленной из разнородных проводников (термопаре), относительная удельная термоЭДС представляет собой разность абсолютных удельных термоЭДС составляющих проводников
где αТА и αТВ - абсолютные удельные термоЭДС контактирующих металлов А и В.
Сопротивление проводников на высоких частотах. На высоких частотах наблюдается неравномерное распределение электрического тока по сечению проводника: плотность тока максимальна на поверхности и убывает по мере проникновения вглубь проводника. Распределение тока по сечению проводника описывается уравнением
где J0 - плотность тока на поверхности;
z - координата по нормали к поверхности в глубь проводника, м;
Δ - глубина проникновения поля в проводник, м.
Плотность тока изменяется по тому же закону, что и напряженность электрического поля E, так как J = γE. Связь глубины проникновения поля с физическими характеристиками вещества определяется выражением
где μ0 = 4π*10-7 Гн/м - магнитная постоянная;
μ - относительная магнитная проницаемость вещества;
f - частота, Гц.
Так как центральная часть сечения проводника почти не используется, активное сопротивление провода R~ при прохождении по нему переменного тока больше, чем его активное сопротивление R0 при постоянном токе. Коэффициент увеличения сопротивления kR рассчитывается по формуле
,
где S0 - площадь поперечного сечения проводника, м2;
Se - эквивалентная площадь сечения проводника, занятая током при воздействии высокочастотного поля (для круглого проводника Se = πdΔ, для плоского - Se = bΔ, где d - диаметр круглого проводника, м; b - ширина плоского проводника, м).
Полупроводники
Удельная электрическая проводимость полупроводника
g = e*n*mn + e*p*mp,
где n, p – концентрация электронов и дырок соответственно;
μn, μp – подвижности электронов и дырок.
В примесных полупроводниках одним из слагаемых, в зависимости от типа проводимости, можно пренебречь.
Концентрации носителей заряда в полупроводниках
Собственная концентрация носителей заряда (электронов и дырок)
где ΔW0 - ширина запрещенной зоны, Дж;
k = 1,38*10-23 Дж/К - постоянная Больцмана;
T - абсолютная температура, К;
NC - эффективная плотность состояний в зоне проводимости, м-3;
NV - эффективная плотность состояний в валентной зоне, м-3.
где mn, mp - эффективные массы электрона и дырки соответственно, кг;
h = 6,63*10-34 Дж*с - постоянная Планка;
m = 9,1*10-31 кг - масса электрона.
Концентрации электронов и дырок в примесных полупроводниках
где WC - энергия дна зоны проводимости, Дж;
WV - энергия потолка валентной зоны, Дж;
WF - энергия уровня Ферми, Дж.
Концентрации носителей заряда связаны с собственной концентрацией носителей соотношением «действующих масс»
n*p = ni2 = pi2.
Уровень Ферми в собственном полупроводнике
,
где Wi – уровень, соответствующий середине запрещенной зоны.
Вероятность заполнения энергетического уровня W электроном и дыркой при температуре T:
- для собственного полупроводника (статистика Максвелла-Больцмана)
- для примесного полупроводника (статистика Ферми-Дирака)
Уровень Ферми в примесных полупроводниках:
;
.
Концентрации основных носителей n и p в электронном и дырочном полупроводниках соответственно при температурах частичной ионизации примесных атомов
где ND, NA - концентрации донорных и акцепторных примесей, м-3;
WD, WA - энергии активации донорных и акцепторных примесей соответственно, Дж.
Концентрации основных носителей в примесных полупроводниках при температурах полной ионизации атомов примеси и пренебрежимо низкой концентрации собственных носителей
n ≈ ND, p ≈ NA.